紫外線光刻機(jī)的這些功能不可忽視
更新時(shí)間：2022-10-10 點(diǎn)擊次數(shù)：1502
紫外線光刻機(jī)是印制板制造工藝中的重要設(shè)備。傳統(tǒng)光刻機(jī)的玻璃-邁拉曬架在生產(chǎn)過(guò)程中需要人工趕氣,邁拉膜需要經(jīng)常更換。由于冷卻系統(tǒng)過(guò)于臃腫,使得其生產(chǎn)成本高、效率低,已不能滿足PC B 生產(chǎn)的需要。在實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)了雙玻璃曬架光刻機(jī)，改進(jìn)了其主要組成部分,包括曬架系統(tǒng)、光路系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)以及電氣和控制系統(tǒng)的整體設(shè)計(jì)。
在計(jì)算機(jī)的控制下，利用聚焦電子束對(duì)有機(jī)聚合物（通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠）進(jìn)行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成精細(xì)圖形。
紫外線光刻機(jī)可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過(guò)**設(shè)計(jì)，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設(shè)備可通過(guò)選配升級(jí)套件，實(shí)現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點(diǎn)：高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SUSS的單視場(chǎng)顯微鏡或分視場(chǎng)顯微鏡，實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確對(duì)準(zhǔn)、針對(duì)厚膠工藝進(jìn)行優(yōu)化的高分辨光學(xué)系統(tǒng)、可選配通用光學(xué)器件，在不同波長(zhǎng)間進(jìn)行快速切換等。
采用三柔性支點(diǎn)實(shí)現(xiàn)高精度自動(dòng)調(diào)平；真空接觸自動(dòng)曝光；樣片升降、調(diào)平、接觸、曝光、復(fù)位實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制；采用積木錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明；可連續(xù)設(shè)定分離間隙；采用雙目雙視場(chǎng)顯微鏡實(shí)現(xiàn)高對(duì)準(zhǔn)精度。整機(jī)具有性能可靠、操作方便、自動(dòng)化程度高等特點(diǎn)。
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